【ITBEAR科技資訊】4月30日消息，近日，據韓媒TheElec披露，三星電子正積極探索在其最新一代DRAM生產中應用極紫外(EUV)光刻工藝，并考慮采用先進的金屬氧化物抗蝕劑(MOR)。這一創新舉措預示著半導體制造技術的新篇章。
隨著芯片制造技術的不斷進步，傳統的化學放大膠(CAR)在光刻膠分辨率、抗蝕刻性和線邊緣粗糙度等方面的局限性愈發顯現。在此背景下，MOR作為下一代光刻膠備受矚目，業內普遍認為其將成為CAR的有力替代者。
據ITBEAR科技資訊了解，三星目前正著眼于在其第6代10納米DRAM，即所謂的1c DRAM中引入MOR技術。該技術將主要應用于六層或七層EUV光刻工藝中，以提升芯片制造的精度和效率。此舉不僅展現了三星對于技術革新的堅定決心，更突顯了其在半導體行業的領先地位。
為滿足新一代DRAM的生產需求，三星已開始積極籌備相關材料的采購工作。據悉，三星正計劃從包括Inpria、杜邦、東進半導體以及三星SDI等多家供應商處采購EUV MOR光刻膠材料。這一系列動態無疑為整個半導體行業帶來了新的發展契機。
隨著相關產品預計于今年下半年正式投入生產，三星的這一技術革新有望進一步推動全球半導體市場的競爭格局。讓我們拭目以待，期待這一創新技術為未來的科技產品帶來更出色的性能和穩定性。
