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此前有報道稱,近期臺積電(TSMC)首席執行官魏哲家訪問了ASML的總部,同時也拜訪了激光供應商Trumpf,與對方的高層會面。臺積電似乎改變了之前對High-NA EUV光刻技術的一些看法,或許會加快引入新技術和新設備的步伐。

據Wccftech報道,ASML發言人Monique Mols向媒體提及,ASML首席財務官Roger Dassen已確認今年年底前將向英特爾和臺積電運送兩臺High-NA EUV光刻機。受到該消息刺激,ASML的股價在今天開盤后大漲,美東時間6月5日收盤時上漲了9.52%。

由于英特爾在購買High-NA EUV光刻機方面表現得相當積極,新設備出現時已搶先下單,并在去年末接收了業界首臺商用High-NA EUV光刻機,前一段時間已完成組裝工作。傳聞英特爾已經獲得了明年上半年之前生產的大部分High-NA EUV光刻機,所以選擇繼續接收屬于正常操作。真正讓人感到意外的是臺積電,要知道不久之前,臺積電高層還在否定短期內引入High-NA EUV光刻機的做法,認為設備過于昂貴,A16制程工藝的公布一定程度上也印證了這種想法。

隨著ASML證實了臺積電將在今年引入High-NA EUV光刻機,已經有媒體聯系了臺積電了解相關情況,不過得到的答復是屬于與供應商之間的密切合作,似乎現階段不想做太多的回應。據了解,三星和SK海力士明年也將得到High-NA EUV光刻機,預計在2025年下半年。

此前有報道稱,一臺High-NA EUV光刻機的價格大概為3.8億美元,是EUV(約1.83億美元)的兩倍多,目前ASML每年High-NA EUV光刻機的產能大概在5到6臺,收到的訂單數量在10至20臺之間。

【來源:超能網】

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標簽:三星 光刻 積電 英特爾 引入
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