【ITBEAR科技資訊】5月26日消息，據塔斯社最新報道，俄羅斯在半導體制造領域取得了顯著進展，其首臺自主研制的光刻機已經完成制造并進入了測試階段。俄羅斯聯邦工業和貿易部副部長Vasily Shpak在近日透露了這一重要信息。
Shpak指出，這臺光刻機能夠確保生產出350納米工藝的芯片，這標志著俄羅斯在半導體生產技術上邁出了重要一步。他強調，“我們已經成功組裝并制造出了首臺國產光刻機，目前它正在作為澤廖諾格勒技術生產線的一部分進行測試。”此外，俄羅斯還設定了下一個目標，即在2026年制造出可以支持130nm工藝的光刻機。
350納米工藝的芯片，雖然在某些領域可能被視為較為落后的技術，但實際上，它仍然在汽車、能源和電信等多個行業中有著廣泛的應用。因此，這臺光刻機的成功研制，無疑將增強俄羅斯在這些關鍵領域的自主研發和生產能力。
此前俄羅斯科學院下諾夫哥羅德應用物理研究所(IPF RAS)曾宣布，他們正在開發俄羅斯首套能夠使用7nm工藝生產芯片的光刻設備，并計劃在2028年全面投產。這一雄心勃勃的計劃顯示出俄羅斯在半導體技術領域的長遠規劃和堅定決心。
據ITBEAR科技資訊了解，該研究所計劃在六年內完成光刻機的工業原型制作。其中，2024年將開發出一臺名為“alpha機器”的初步版本，其重點不在于工作速度，而在于系統的全面性。此后，將在2026年以更加優化和高效的“Beta版本”取代“alpha機器”，并計劃將其集成到實際的技術流程中。
