【ITBEAR】9月24日消息，在半導體行業邁向更先進制程的浪潮中，計算光刻技術作為芯片制造的核心環節，正經歷著從傳統方法到創新技術的深刻變革。特別是隨著制程技術向7nm乃至5nm節點的推進，傳統光刻技術因其規則局限性和優化自由度不足，難以滿足日益復雜的芯片設計要求。在此背景下，反向光刻技術（ILT）以其獨特的優化思路和顯著優勢，逐漸成為行業關注的焦點。
ILT技術通過從目標芯片圖案出發，逆向推導獲得最優化的掩模圖案，極大地提升了優化的靈活性和精準度，更好地滿足了先進制程對圖形精度的嚴苛要求。因此，在探索7nm及以下制程的征途中，ILT技術被視為提升制造良率的關鍵所在。尤其是在國內尖端光刻設備受限的環境下，ILT技術的重要性更加凸顯。
據ITBEAR了解，ILT技術雖非新興，但由于其計算量大、效率低以及掩模復雜度高難于制造等技術難題，長期以來尚未得到廣泛應用。然而，作為國內探索ILT技術的先驅之一，東方晶源通過采用GPU集群高性能計算解決方案，成功解決了計算量大的問題，并率先實現了全芯片級別的基于ILT技術的掩模優化。面對先進制程的迫切需求，東方晶源近期又攻克了眾多技術難題，包括優化收斂性、結果一致性、人工智能加速以及掩模復雜度重整化等，目前正在國內各大Fab廠商加緊驗證。
東方晶源的ILT解決方案以其獨特的特點和優勢，在行業中脫穎而出。該方案采用獨創的混合掩模優化方法，顯著降低了計算復雜度，提升了整體計算效率，并在優化輔助曝光信號的同時考慮三維掩模效應，提供更為精準的掩模結果。此外，通過引入人工智能技術，進一步解決了ILT所需運算時間長的弊端，其深度學習模型預測結果與ILT計算結果相似度高達95%，同時實現了近十倍的提速。
值得一提的是，東方晶源的ILT解決方案還支持不同復雜度的掩模設計，包括矩形圖形、曼哈頓圖形以及曲線圖形，從而適應不同客戶及應用場景的需求。自2014年成立以來，東方晶源在計算光刻領域持續創新，構建了全面且領先的技術體系。其旗下計算光刻平臺PanGen?已形成八大產品矩陣，具備完整的計算光刻相關EDA工具鏈條，并已在國內各大Fab廠商廣泛應用，量產掩模超過6000張。
展望未來，隨著ILT解決方案的不斷革新，其在效率和性能上的優勢將更加突顯，必將在先進制程研發和應用中發揮重要作用，為提升良率、降低生產成本展現出獨特的價值。東方晶源將持續堅持技術創新，提供卓越的解決方案，為我國半導體產業的發展和進步貢獻智慧和力量。#東方晶源# #反向光刻技術# #計算光刻# #先進制程# #半導體產業#
