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【ITBEAR】近日，理想晶延半導體設備（上海）股份有限公司在知識產權領域取得了新突破。該公司成功獲得了一項名為“一種真空腔內旋轉臺”的實用新型專利，該專利的申請日期追溯至今年2月，授權公告號為CN 221822325 U。

據悉，此專利主要應用于薄膜沉積技術，特別是半導體薄膜沉積設備中。其設計包括載臺、中空旋轉平臺及磁流體傳動軸，實現了真空環境下的物料旋轉功能。該旋轉臺的特點在于其高效的密封性、易于維修、成本低廉，并能適應大負載及提高抗偏載能力。