【ITBEAR科技資訊】7月1日消息，自2019年以來，臺積電在其先進的制程工藝中廣泛應用了極紫外光刻機(EUV)技術(shù)。從第二代7nm制程開始，到后續(xù)的5nm和3nm工藝，極紫外光刻機都扮演了關鍵角色。而現(xiàn)在，隨著技術(shù)不斷進步，未來的2nm及以下制程工藝對設備提出了更高的要求，需要采用價格更為高昂的高數(shù)值孔徑極紫外光刻機。
據(jù)ITBEAR科技資訊了解，為了滿足新工藝的需求，臺積電計劃在未來兩年內(nèi)從阿斯麥公司接收大量的極紫外光刻機。據(jù)外媒報道，這一數(shù)字預計將超過60臺，這無疑是一個巨大的投資。鑒于阿斯麥極紫外光刻機的高價，臺積電此次采購的總成本預計將超過4000億新臺幣，折合美元約為123億。
此外，報道還指出，阿斯麥作為全球唯一能制造極紫外光刻機的公司，其產(chǎn)品的交付周期目前大約在16到20個月。因此，臺積電今年訂購的大部分設備預計要到明年才能陸續(xù)交付。盡管如此，由于客戶需求強勁，阿斯麥已經(jīng)在努力提升產(chǎn)量，并計劃建立新工廠以滿足市場需求。據(jù)悉，阿斯麥明年的極紫外光刻機交付量有望增加，目標產(chǎn)能設定為90臺。
隨著技術(shù)的不斷進步和市場需求的增長，極紫外光刻機在半導體制造領域的重要性日益凸顯。臺積電的這一大規(guī)模采購計劃無疑將進一步鞏固其在全球半導體市場的領先地位，并推動整個行業(yè)的發(fā)展。
