【ITBEAR科技資訊】7月1日消息，自2019年以來，臺積電在其先進的制程工藝中廣泛應用了極紫外光刻機(EUV)技術。從第二代7nm制程開始，到后續的5nm和3nm工藝，極紫外光刻機都扮演了關鍵角色。而現在，隨著技術不斷進步，未來的2nm及以下制程工藝對設備提出了更高的要求，需要采用價格更為高昂的高數值孔徑極紫外光刻機。
據ITBEAR科技資訊了解，為了滿足新工藝的需求，臺積電計劃在未來兩年內從阿斯麥公司接收大量的極紫外光刻機。據外媒報道，這一數字預計將超過60臺，這無疑是一個巨大的投資。鑒于阿斯麥極紫外光刻機的高價，臺積電此次采購的總成本預計將超過4000億新臺幣，折合美元約為123億。
此外，報道還指出，阿斯麥作為全球唯一能制造極紫外光刻機的公司，其產品的交付周期目前大約在16到20個月。因此，臺積電今年訂購的大部分設備預計要到明年才能陸續交付。盡管如此，由于客戶需求強勁，阿斯麥已經在努力提升產量，并計劃建立新工廠以滿足市場需求。據悉，阿斯麥明年的極紫外光刻機交付量有望增加，目標產能設定為90臺。
隨著技術的不斷進步和市場需求的增長，極紫外光刻機在半導體制造領域的重要性日益凸顯。臺積電的這一大規模采購計劃無疑將進一步鞏固其在全球半導體市場的領先地位，并推動整個行業的發展。
