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【ITBEAR】近期,中國在半導體產業的多個領域正加速推進自給自足的步伐,力求減少對外部供應鏈的依賴。這一戰略涵蓋了邏輯芯片制造、DRAM內存、HBM內存、NAND閃存,以及半導體設備和材料的研發與生產。

在邏輯芯片制造領域,盡管有觀點認為中國與全球領先水平存在約十年的差距,但更多分析傾向于這一差距在3-5年左右。這一評估部分基于華為最新款手機的芯片性能。

DRAM內存方面,中國廠商長鑫已實現LPDDR5技術,相當于全球第六代水平,僅落后一代。然而,在更先進的HBM內存領域,中國據估計落后全球約十年,主要歸因于起步較晚。

NAND閃存方面,長存曾推出全球首款200+層3D NAND閃存,技術領先。但因設備受限,目前國產化水平約為160層,與競爭對手存在兩代差距。盡管如此,外媒指出,長存的技術基礎并未落后,只是受限于設備。

半導體設備方面,中國落后全球約3-5年,而在光刻機技術上,差距被評估為至少15年以上,因為中國尚未掌握浸潤式光刻機技術,而ASML已擁有超過20年的相關經驗。

外媒總結認為,半導體產業極為復雜,全球尚無國家能實現完全自給。中國雖因外部壓力刺激了創新,但在如此復雜的技術生態中,單打獨斗的戰略面臨巨大挑戰。中國要實現全產業鏈自給,仍有漫長道路要走。

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標簽:光刻 中國 落后 芯片 差距
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