在芯片制造業(yè)的浩瀚星空中，光刻技術(shù)猶如一顆璀璨的恒星，引領(lǐng)著行業(yè)的前行方向。盡管諸如NIL納米壓印與BLE電子束技術(shù)嶄露頭角，但在大規(guī)模芯片生產(chǎn)的舞臺(tái)上，光刻技術(shù)依然牢牢占據(jù)主導(dǎo)地位，其中光刻機(jī)更是不可或缺的核心設(shè)備。
光刻機(jī)的全球市場(chǎng)格局，宛如一幅三強(qiáng)鼎立的畫卷。荷蘭ASML以壓倒性的85%市場(chǎng)份額傲視群雄，而日本的尼康與佳能則攜手共進(jìn)，占據(jù)了剩余的15%版圖。這樣的市場(chǎng)分布，無(wú)疑凸顯了光刻機(jī)領(lǐng)域的高度集中與競(jìng)爭(zhēng)激烈。
將目光轉(zhuǎn)向中國(guó)，上海微電子作為國(guó)內(nèi)光刻機(jī)領(lǐng)域的佼佼者，其身影雖在，但市場(chǎng)份額微乎其微，近乎于無(wú)。該公司目前公開(kāi)的光刻機(jī)產(chǎn)品，技術(shù)停留在90納米級(jí)別，且多用于后道工序，即封測(cè)領(lǐng)域，而在前道制造上的應(yīng)用則相對(duì)較少。這一現(xiàn)狀，無(wú)疑為中國(guó)芯片制造業(yè)的自主發(fā)展之路增添了幾分挑戰(zhàn)。
面對(duì)這一困境，國(guó)際上的封鎖與制裁接踵而至。美國(guó)攜手日本、荷蘭，對(duì)光刻機(jī)實(shí)施嚴(yán)格管控，先是禁止EUV光刻機(jī)出口中國(guó)，隨后更是將高端的浸潤(rùn)式DUV光刻機(jī)也納入禁售之列，其目的不言而喻，旨在遏制中國(guó)芯片制造產(chǎn)業(yè)的崛起。
近日，美國(guó)的制裁行動(dòng)再度升級(jí)，規(guī)模空前，涉及140家企業(yè)、24種設(shè)備、3種軟件，以及HBM內(nèi)存，全面圍堵中國(guó)高科技領(lǐng)域的發(fā)展。在此背景下，中國(guó)如何破局？答案或許只有一個(gè)——自主研發(fā)EUV光刻機(jī)。
一旦中國(guó)成功掌握EUV光刻機(jī)技術(shù)，將意味著5納米及以下級(jí)別芯片的自給自足，屆時(shí)，美國(guó)的芯片與技術(shù)封鎖將形同虛設(shè)，自我放棄中國(guó)這一龐大的市場(chǎng)。反之，若中國(guó)無(wú)法突破EUV光刻機(jī)的技術(shù)壁壘，繼續(xù)依賴進(jìn)口，則將長(zhǎng)期處于被動(dòng)地位，受制于人的局面難以改變。
然而，EUV光刻機(jī)的研發(fā)之路并非坦途。近期，國(guó)內(nèi)曝光的一臺(tái)采用193納米波長(zhǎng)光源的光刻機(jī)，雖然分辨率達(dá)到65納米以下，套刻精度也小于8納米，但仍屬于DUV光刻機(jī)的范疇，距離浸潤(rùn)式光刻機(jī)乃至EUV光刻機(jī)尚有不小差距。這意味著，中國(guó)光刻機(jī)技術(shù)的發(fā)展還需跨越至少兩代，才能觸及EUV光刻機(jī)的門檻。
盡管如此，挑戰(zhàn)與機(jī)遇并存。面對(duì)國(guó)際封鎖與技術(shù)壁壘，中國(guó)沒(méi)有退路，唯有堅(jiān)定信念，加大研發(fā)投入，勇攀科技高峰。唯有如此，才能在未來(lái)全球芯片制造業(yè)的競(jìng)爭(zhēng)中占據(jù)一席之地，實(shí)現(xiàn)真正的自主可控。
