【ITBEAR】近期，國(guó)際科技界傳來(lái)消息，臺(tái)積電在先進(jìn)制程芯片代工領(lǐng)域已占據(jù)顯著領(lǐng)先地位，這一成就甚至促使臺(tái)積電董事長(zhǎng)劉德音公開(kāi)發(fā)表言論，表示華為在技術(shù)上難以追上臺(tái)積電。
盡管臺(tái)積電的2nm制程芯片尚未進(jìn)入量產(chǎn)階段，但其首批產(chǎn)能已被蘋(píng)果公司提前鎖定。據(jù)悉，蘋(píng)果計(jì)劃在其即將推出的iPhone 17系列中，為Pro和Pro Max機(jī)型采用臺(tái)積電的2nm制程芯片，而iPhone 17 Air則可能繼續(xù)使用3nm制程技術(shù)。
除蘋(píng)果外，英特爾的Nova Lake平臺(tái)也將采用臺(tái)積電的2nm制程工藝，不過(guò)由于排隊(duì)等待，預(yù)計(jì)要到2026年才能實(shí)現(xiàn)。臺(tái)積電在技術(shù)創(chuàng)新上的步伐并未停歇，據(jù)透露，該公司將于今年年底從荷蘭ASML公司接收全球最先進(jìn)的芯片制造設(shè)備。
這批設(shè)備中的核心——高數(shù)值孔徑極紫外（High NA EUV）光刻機(jī)，被譽(yù)為全球最昂貴的芯片制造設(shè)備，每臺(tái)價(jià)格高達(dá)3.5億美元。這一先進(jìn)設(shè)備將極大地提升臺(tái)積電的芯片制造能力，進(jìn)一步鞏固其在行業(yè)內(nèi)的領(lǐng)先地位。
據(jù)悉，臺(tái)積電已計(jì)劃在位于中國(guó)臺(tái)灣新竹總部附近的研發(fā)中心安裝這批新的High NA EUV光刻機(jī)，預(yù)計(jì)將在本季度內(nèi)完成安裝。此舉不僅標(biāo)志著臺(tái)積電在芯片制造領(lǐng)域的技術(shù)實(shí)力再次得到增強(qiáng)，也預(yù)示著未來(lái)將有更多高性能、低功耗的芯片產(chǎn)品問(wèn)世。
