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三星官方在上個月末宣布,其位于韓國的華城工廠開始生產(chǎn)3nm芯片。這是目前半導(dǎo)體制造工藝中最先進(jìn)的技術(shù),三星也成為了全球唯一一家提供采用下一代全新GAA(Gate-All-Around)架構(gòu)晶體管技術(shù),提供3nm工藝代工服務(wù)的代工企業(yè)。

據(jù)Business Korea報道,三星計劃在2022年7月5日在華城工廠舉行3nm GAA芯片的首次發(fā)貨儀式,三星設(shè)備解決方案部分負(fù)責(zé)人慶桂顯和韓國工業(yè)貿(mào)易資源部長李昌陽都會出席。據(jù)了解,首個客戶是上海磐矽半導(dǎo)體,這批芯片將用于加密貨幣業(yè)務(wù)。

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有消息指出,三星可能會使用3nm工藝制造Exynos 2300,或用于明年的Galaxy S23系列,不過前一段有報道稱,其表現(xiàn)不達(dá)預(yù)期,Galaxy S23系列可能全部采用高通的解決方案。此外,谷歌第三代Tensor芯片也可能采用三星3nm工藝,將用于Pixel 8系列。高通在即將發(fā)布的Snapdragon 8 Gen2上選擇了臺積電的4nm工藝,如無意外并不會出現(xiàn)三星制造的版本。

三星表示,與原來采用FinFET的5nm工藝相比,初代3nm GAA制程節(jié)點(diǎn)在功耗、性能和面積(PPA)方面有不同程度的改進(jìn),其面積減少了16%、性能提高23%、功耗降低45%。到了第二代3nm芯片,面積減少了35%、性能提高30%、功耗降低50%。這也是三星首次實現(xiàn)GAA“多橋-通道場效應(yīng)晶體管(MBCFET)”應(yīng)用,打破了FinFET原有的性能限制,通過降低工作電壓水平來提高能耗比,同時還通過增加驅(qū)動電流增強(qiáng)芯片性能。

【來源:超能網(wǎng)】

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標(biāo)簽:三星 芯片 消息 性能 手機(jī) 工藝 功耗 節(jié)點(diǎn)
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