2022年9月，上海復(fù)享光學(xué)股份有限公司（以下簡(jiǎn)稱(chēng)“復(fù)享光學(xué)”）通過(guò)與頭部客戶(hù)的深度打磨和產(chǎn)線(xiàn)驗(yàn)證，歷時(shí)一年，完成了針對(duì)刻蝕應(yīng)用場(chǎng)景的光譜儀—ZURO系列產(chǎn)品的研發(fā)與量產(chǎn)導(dǎo)入，為集成電路產(chǎn)業(yè)提供了面向6、8、12寸制程刻蝕工藝的光譜檢測(cè)解決方案。
ZURO系列光譜儀匹配半導(dǎo)體行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)，滿(mǎn)足針對(duì)金屬刻蝕、單多晶硅刻蝕、化合物刻蝕及高速清洗等多個(gè)應(yīng)用場(chǎng)景需求，具有信號(hào)精準(zhǔn)、性能長(zhǎng)期穩(wěn)定、Fab生產(chǎn)環(huán)境適應(yīng)等特點(diǎn)。該系列產(chǎn)品具備高靈敏、高信噪比等優(yōu)勢(shì)，單幀采集最大動(dòng)態(tài)范圍突破40000:1，優(yōu)于同類(lèi)國(guó)外產(chǎn)品，能夠有效提取深孔和多晶硅刻蝕過(guò)程中的弱信號(hào)。此外，為ZURO系列光譜儀配備的軟件，ideaEPD是一款由復(fù)享光學(xué)深入客戶(hù)應(yīng)用開(kāi)發(fā)的Fab工藝專(zhuān)用軟件，支持自定義終點(diǎn)算法、工藝終點(diǎn)分析、高速采樣監(jiān)控、刻蝕深度監(jiān)控等功能，能實(shí)現(xiàn)多達(dá)10臺(tái)腔體的同時(shí)監(jiān)控。復(fù)享光學(xué)已完成ZURO系列產(chǎn)品的國(guó)產(chǎn)驗(yàn)證與量產(chǎn)準(zhǔn)備，能為客戶(hù)進(jìn)行差異化的定制開(kāi)發(fā)，解決頭部客戶(hù)的關(guān)鍵光學(xué)零部件供應(yīng)安全問(wèn)題。目前，復(fù)享光學(xué)的多系列光譜模組產(chǎn)品已經(jīng)獲得多家半導(dǎo)體頭部客戶(hù)的驗(yàn)證、生產(chǎn)導(dǎo)入及小批量訂單。隨著對(duì)需求響應(yīng)的不斷深入和工程參數(shù)的持續(xù)優(yōu)化，復(fù)享光學(xué)從起量階段逐步進(jìn)入到放量階段，以光譜硬科技助力產(chǎn)業(yè)發(fā)展。
復(fù)享光學(xué)歷時(shí)十年，深耕微納光電子領(lǐng)域，發(fā)展智能化全光譜技術(shù)，著力于光子學(xué)與人工智能的融合，形成了算法驅(qū)動(dòng)的深度光譜平臺(tái)，成為了中國(guó)領(lǐng)先的晶圓級(jí)制造與量檢測(cè)設(shè)備關(guān)鍵零部件光譜模組供應(yīng)商。
復(fù)享光學(xué)創(chuàng)始團(tuán)隊(duì)出身于國(guó)內(nèi)資深光子學(xué)研究實(shí)驗(yàn)室，在發(fā)展中進(jìn)一步吸納了海內(nèi)外微納光電子領(lǐng)域知名研究人員和半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)專(zhuān)家，已擁有近百項(xiàng)知識(shí)產(chǎn)權(quán)。
值得一提的是，復(fù)享光學(xué)于2019年獲批成立“上海微納制程智能檢測(cè)工程技術(shù)研究中心”，這是國(guó)內(nèi)首個(gè)在半導(dǎo)體領(lǐng)域開(kāi)展微納制程光學(xué)量檢測(cè)技術(shù)研究的應(yīng)用平臺(tái)。為進(jìn)一步探索集成電路領(lǐng)域光檢測(cè)基礎(chǔ)技術(shù)，公司于2021年與復(fù)旦大學(xué)共同建立“光檢測(cè)與光集成校企聯(lián)合研究中心”，致力于攻關(guān)微納制造產(chǎn)業(yè)中更為前沿的共性關(guān)鍵技術(shù)與工藝問(wèn)題。
據(jù)復(fù)享光學(xué)介紹，隨著集成電路制程先進(jìn)工藝的不斷提升和新型光電子芯片應(yīng)用的興起，晶圓制造工藝的量檢測(cè)需求日益凸顯。光學(xué)衍射極限的存在使得成像技術(shù)難以滿(mǎn)足產(chǎn)業(yè)發(fā)展需求，光譜分析技術(shù)已存在于各類(lèi)微納制造與量檢測(cè)設(shè)備之中，成為支撐集成電路和光電子芯片產(chǎn)業(yè)制造工藝的關(guān)鍵技術(shù)之一。
半導(dǎo)體設(shè)備是半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的基礎(chǔ)。晶圓前道制造是半導(dǎo)體制程中最重要的階段。光刻、薄膜沉積、刻蝕、摻雜、表面處理等環(huán)節(jié)的工藝中與工藝間控制都需要用到多種光學(xué)與電學(xué)檢測(cè)手段，是確保晶圓生產(chǎn)良率的關(guān)鍵。隨著制程精度的提升，光學(xué)檢測(cè)的比重將進(jìn)一步擴(kuò)大。縱觀(guān)當(dāng)前集成電路制造過(guò)程中的量檢測(cè)設(shè)備，都離不開(kāi)深度光譜技術(shù)。據(jù)行研報(bào)告了解，目前，我國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備國(guó)產(chǎn)化率尚不足10%，關(guān)鍵零部件不足1%，光譜模組則幾乎為零，“產(chǎn)業(yè)鏈全面國(guó)產(chǎn)化”已成為這個(gè)時(shí)代的一大主題。
復(fù)享光學(xué)作為國(guó)內(nèi)光學(xué)領(lǐng)域領(lǐng)軍企業(yè)，提供芯片制程工藝控制中各類(lèi)光譜模組及量檢測(cè)解決方案。通過(guò)十年的行業(yè)積累，公司已擁有超3000家優(yōu)質(zhì)客戶(hù)，成功進(jìn)入半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)頭部企業(yè)的供應(yīng)商名錄，并與超170家半導(dǎo)體、高端材料、生物醫(yī)藥企業(yè)形成交流與合作。
賦能中國(guó)微納制造，將是復(fù)享光學(xué)未來(lái)一段時(shí)期內(nèi)的首要任務(wù)。復(fù)享光學(xué)創(chuàng)始人殷海瑋博士表示，接下來(lái)一年，公司將持續(xù)聚焦高端光譜模組的品質(zhì)提升、技術(shù)迭代以及產(chǎn)能擴(kuò)大，以進(jìn)一步滿(mǎn)足下游設(shè)備企業(yè)需求。
復(fù)享光學(xué)于2021年完成超億元B輪融資，由半導(dǎo)體頭部產(chǎn)業(yè)基金中芯聚源領(lǐng)投，上海科創(chuàng)集團(tuán)、中科創(chuàng)星、長(zhǎng)江證券、海通證券、泰坦科技跟投。據(jù)悉，復(fù)享光學(xué)近期將啟動(dòng)C輪融資，資金用于高端人才擴(kuò)充、生產(chǎn)場(chǎng)地?cái)U(kuò)容、研發(fā)設(shè)備升級(jí)，以及微納制造領(lǐng)域前沿技術(shù)布局等戰(zhàn)略方向。
