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臺(tái)積電董事長(zhǎng)劉德音透露臺(tái)積電將有可能擴(kuò)建位于臺(tái)中晶圓的工廠，以尋求增加 2nm 工藝的產(chǎn)能。
而在此前就有消息爆料稱，臺(tái)積電內(nèi)部 2nm 的工藝制程取得了重大突破，其研發(fā)進(jìn)度快于原計(jì)劃內(nèi)容。并且將采用環(huán)繞柵極晶體管技術(shù)，而并非目前相對(duì)成熟的鰭式場(chǎng)效應(yīng)晶體管技術(shù)方案。
而臺(tái)積電的規(guī)劃中，將在 3nm 工藝正式投產(chǎn)后再啟動(dòng) 2nm 工藝的試投產(chǎn)。而 3nm 工藝將于 21 年開始小規(guī)模試產(chǎn)，如果順利將于 22 年開始大規(guī)模生產(chǎn)。
而根據(jù)臺(tái)積電官網(wǎng)資料顯示，其目前位于臺(tái)中的只有一座十二寸的晶圓工廠。在臺(tái)積電的規(guī)劃中命名為晶圓十五廠。而目前尚未得知臺(tái)積電的 2nm 工藝計(jì)劃是準(zhǔn)備將產(chǎn)線進(jìn)行改造或者重新建立新的廠區(qū)，但從曝光消息來(lái)看，臺(tái)積電已取得新的地塊，建立新廠區(qū)的可能性應(yīng)該較大。
