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  1月3日消息 英偉達的安培系列顯卡將會采用7nm工藝,有望在2020年下半年發(fā)布。現(xiàn)在根據(jù)《臺北時報》的最新報道,元大證券投資咨詢有限公司的消息稱英偉達的下一代基于“安培”架構的顯卡與前代圖靈顯卡相比,性能提升了50%,而功耗卻只有前者的一半。

  ▲英偉達CEO 黃仁勛

  外媒TPU表示,安培顯卡采用了臺積電的7nm制程節(jié)點,由于架構改變和制程更新帶來的50%的性能提升不是不可能的,功耗的大幅下降也是在情理之中。據(jù)悉,英偉達現(xiàn)在的圖靈顯卡基于臺積電的12納米FinFET制造工藝,而其競爭對手AMD 的Navi顯卡已經(jīng)提前一步采用了7納米工藝。

  最新的消息顯示,英偉達可能在今年8月份舉行的SIGGRAPH 2020上推出安培顯卡,屆時紅綠兩廠全部升級7nm,孰強孰弱就一目了然了。

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標簽:老黃放大招:英偉達首款7nm顯卡性能大漲50% 功耗僅為圖靈一半 人物動態(tài)
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