8 月 22 日消息，今日，中微公司宣布，公司的電容耦合高能等離子體(CCP)刻蝕設備第 2000 個反應臺順利付運國內一家半導體制造商。
中微公司指出，本批次運付的 CCP 刻蝕設備反應臺有 Primo AD-RIE 及 Primo HD-RIE 系列產品。其中，Primo AD-RIE-e 是中微第二代電介質刻蝕產品 Primo AD-RIE 的子產品，將應用于 5 納米及以下的前段和中段的掩膜層刻蝕的開發及量產。
該交付批次的 Primo HD-RIE 則具有六個單反應臺腔體的系統，定位于為中高深寬比刻蝕提供綜合解決方案。中微公司表示，Primo HD-RIE 在 3D-NAND 及 DRAM 中高深寬比溝槽及深孔刻蝕上表現優異，在一些關鍵制程上已實現量產。
IT之家了解到，數據顯示，中微公司 2022 年上半年新簽訂單金額同比增長 61.83% 達到 30.57 億元，營業收入同比增長了 47.30% 達到 19.72 億元，扣非歸母凈利潤同比增長了 615.26% 達到 4.41 億元，其中刻蝕設備收入為 12.99 億元，較去年同期增長約 51.48%。
