來源：天極網
臺積電作為全球領先的半導體廠商，現在有外媒報道稱其正在大規模購買 EUV 光刻機，以此來保持其在業界的領先地位。
根據 TOMSHARDWARE 報道，臺積電表示其部署的極紫外光 ( EUV ) 光刻工具已占全球安裝和運行總量的 50% 左右，這意味著其使用的 EUV 機器數量超過了業內其他任何一家公司。
為了保持領先，臺積電已經下單訂購了至少 13 臺 ASML 的 Twinscan NXE EUV 光刻機，將會在 2021 年全年交付，不過具體的交付和安裝時間表尚不清楚。
同時，明年臺積電實際需求的數量可能是高達 16 到 17 臺 EUV 光刻機。
當然臺積電不是唯一采購大量 EUV 光刻機的半導體制造商，現在三星為了爭奪更多的半導體訂單，正在擴大 EUVL 工藝在生產上的應用，三星半導體也提高了基于 EUV 工藝的 DRAM 的生產，這也將使三星會更多的采用 Twinscan NXE 光刻機。
