臺積電的下一代先進工藝中，3nm明年會放量生產，2nm工藝在2025年量產，再往后的1nm工藝一直沒有明確計劃，不過工廠的事差不多定下了，新竹科學園區(qū)有關負責人今日表示，臺積電未來1nm廠將落腳竹科龍?zhí)秷@區(qū)。
目前臺積電確定的只是前期的選址，后面還有一大堆流程要走，即便一切順利，如今先進的芯片廠建設周期至少3年，再加上2nm工藝是2025年量產，1nm工藝量產至少要到2028年之后了。
至于具體的技術細節(jié)，那更是無從談起，不過臺積電在2nm之后就會使用GAA晶體管技術，1nm也不會例外。
還有就是投資金額，臺積電3nm、5nm工廠的建設資金大約是200億美元，1nm工藝的投資計劃高達320億美元，輕松超過2000億元，成本要比前面的工藝高多了。
其中一個重要原因就是下一代EUV光刻機，目前AMSL的EUV光刻機可以滿足3nm工藝的需要，2nm之后的工藝就要上高NA技術的EUV光刻機了，型號是NXE:5200，價格直線飛升，從目前的1.5億美元大幅上漲到4億美元以上。
來源：快科技
