【ITBEAR科技資訊】4月24日消息，據外媒報道，臺積電在去年12月29日開始商業化生產采用鰭式場效應晶體管架構的3nm制程工藝。雖然比三星電子晚了近半年，但該公司的3nm制程工藝備受業界看好。
臺積電CEO魏哲家在一季度的財報分析師電話會議上表示，他們的3nm制程工藝以可觀的良品率量產，并且客戶對該工藝的需求超過了他們的產能。預計今年的產能將得到充分利用。從功耗、性能和面積及晶體管技術來看，臺積電的3nm制程工藝是目前最先進的半導體技術之一。他們預計客戶對該工藝的強勁需求將持續多年，他們對3nm制程工藝家族成為另一個大而持久的工藝節點充滿信心。
據ITBEAR科技資訊了解，魏哲家透露，臺積電的3nm制程工藝預計從三季度開始就將為他們帶來可觀的營收。該工藝在臺積電今年全年晶圓代工業務收入中所占的比例預計為中等個位數。此外，臺積電也將加快在5nm和3nm工藝的擴建計劃，以滿足未來市場的需求。
