【ITBEAR科技資訊】4月24日消息，據外媒報道，臺積電已于去年12月29日正式開始商業化生產鰭式場效應晶體管架構的3nm制程工藝。雖然較三星電子晚了近半年，但仍被業界看好。臺積電CEO魏哲家在一季度的財報分析師電話會議上表示，他們的3nm制程工藝以可觀的良品率量產，在高性能計算和智能手機應用需求的推動下，客戶對3nm制程工藝的需求超過了他們的產能，他們預計今年的產能將得到充分利用。
魏哲家在會上透露，他們的3nm制程工藝，預計從三季度開始就將為他們帶來可觀的營收。在他們今年全年晶圓代工業務收入中所占的比例預計為中等個位數。從功耗、性能和面積及晶體管技術來看，他們的3nm制程工藝都是目前最先進的半導體技術。因此，他們預計客戶對他們的3nm制程工藝的強勁需求將持續多年，他們有信心3nm制程工藝家族成為他們另一個大而持久的工藝節點。
據ITBEAR科技資訊了解，臺積電的3nm制程工藝已經在客戶中獲得廣泛應用。在魏哲家看來，3nm制程工藝的強勁需求將是長期的，他們將繼續加大對此領域的投資，并持續推動技術進步。
