快科技5月12日消息，EDA電子設計自動化被稱為芯片之母，是芯片設計及制造不可少的關鍵工具，前不久華為宣布已經攻克了14nm以上工藝的EDA工具，實現了國產化，但在這個領域，美國幾家公司在全球是壟斷性領先。
在臺積電的技術論壇會議上，美國新思科技（Synopsys）也宣布跟臺積電達成了合作，在后者的N2工藝上實現了數字及定制設計EDA流程，率先進入了2nm時代。
新思提到，與N3工藝相比，臺積電的2nm工藝在相同功率下可提升15%的性能，相同速度下可降低30%的功耗，同時還提高了芯片密度。
新思科技新一代EDA投入了大量資源，可以讓芯片設計人員快速啟動2nm芯片設計，不僅為芯片帶來差異化，同時還能縮短芯片上市時間。
臺積電的2nm工藝要到2025年才能量產，提前準備好EDA工具有助于客戶快速導入2nm芯片設計，新思與臺積電的合作也是臺積電每次都率先量產新工藝并獲得大量客戶的關鍵之一。
