【ITBEAR科技資訊】6月23日消息，據彭博社報道，荷蘭政府計劃在最快的下周發布一系列新的出口管制措施，旨在限制ASML公司的半導體制造設備的出口。這一舉措將包括對ASML的深紫外光(DUV)浸入式光刻設備的出口限制，其中包括TWINSCAN NXT:2000i、NXT:2050i和NXT:2100i。此前，ASML最先進的極紫外光(EUV)光刻機已被列入出口管制名單。
據知情人士透露，新的出口管制規定有望在6月30日或7月第一周公布，并可能成為其他歐盟成員國效仿的對象。荷蘭政府發言人對此事拒絕置評。
這一舉措是荷蘭和日本自今年1月起原則上同意加入美國限制對中國大陸出口先進半導體制造設備行動以來的最新舉措。荷蘭貿易部長Schreinemacher表示，考慮到國家和國際安全因素，荷蘭有必要盡快限制先進半導體技術的出口。
報道指出，ASML執行副總裁兼商務總監Christophe Fouquet昨日表示，幾乎不可能建立全自主的芯片產業鏈，這樣做將付出極高的代價并面臨巨大困難。佳能和尼康作為日本光刻機制造商已經成為此次限制行動的前車之鑒。
據ITBEAR科技資訊了解，這一新聞引起了廣泛的關注，特別是對于半導體產業鏈的全球供應鏈格局和技術競爭格局產生了重大影響。隨著荷蘭政府計劃的實施，行業內將進一步關注半導體設備的出口限制對全球技術合作和市場競爭的影響。
