在美國停止向中國科技公司供應芯片，并威脅臺積電將不允許給華為代工芯片的新聞下，有人評論：“因封鎖而主動把市場讓出來，這是頭一次！”
作為領先者主動放棄市場可不是一步好棋，一般情況下，科技市場很難出現大的反轉，尤其是在美國壟斷的情況下，但現在美國正在主動與中國到處脫鉤，這將促進了中國一些相關產業的得到發展。
美國限制是為了讓中國在某些問題上做出讓步。白宮認為，中國無法大量生產芯片，因為中國缺乏生產芯片的光刻機。據報道，中芯國際可以批量生產14納米芯片，但是由于缺少EUV光刻機，它生產不了7納米及以下的芯片。
中國在相關領域的發展真的那么被動嗎？
并沒有你想象中的那么差勁，更不用說我們早就提前開辟了道路。許多人只看到美國和日本目前在集成電路產業中的優勢，而國內似乎一片空白，但實際上，新中國成立后不久就已經開始對該領域的研發進行投資，1958年實現了硅單晶，比日本還早兩年。
但是這一領域的市場主要由美國主導，而企業都具有逐利性，他們需考慮到市場成本。而中國人口眾多，經濟基礎薄弱，我們須優先考慮就業等問題，所以市場規模大，技術含量相對低的產品得到了優先發展。對于那些市場規模小，技術難度高的產品，成本不劃算，不具有快速的效益，通常將由各大國或研究機構研發，而并不是我們做不了，最典型的例子是光刻機。
大家總是認為西方光刻機是先進的，所以它可以制造芯片，而中國沒有技術就不能制造它，但是這種邏輯是錯誤的，因為只看到了膚淺的市場地位。就光刻機本身而言，它并不是一種完全不可用的技術。荷蘭ASML公司占全球EUV光刻機市場的100％，但過去兩年全球總出貨量僅為44臺，這表明光刻機市場狹窄且每個組件的生產成本都很高，因此多年以來，國內沒有一個企業愿意去批量生產。
但實際上，中國是具有研制能力的。例如，上海微電子的90納米光刻機就是一種成熟的產品，上海光機所在8年前就開始開發EUV光源，多虧特朗普，使得原本只是純科學研究模式的中國光刻機，被迫轉型走向市場。也許這就是我們等待了多年的機會，原本散布在中國各個研究機構中EUV領域，將展開全面的合圍。
上海微電子最近宣布，它將在2021-2022年交付首臺國產28nm工藝浸沒式光刻機，這意味著中國在光刻機制造領域已經超過了日本的尼康和佳能，僅次于ASML。同時，研究人員說，這種光刻機將使用ArF光源，雕刻的精度約為1.9納米，并在多次曝光下能生產11納米工藝芯片。此外，中國已經在拋光液，拋光墊，光核膠，蝕刻液，顯影劑和其他材料（即芯片領域涉及整個產業鏈），在這兩年內能實現了國內替代。
我們擁有的技術能生產更高精尖的光刻機，但我們缺少的是市場機會。既然美國愿意放棄這個市場，這將為我國的半導體產業的發展和壯大提供了絕好機會，在這一點上，我們必須感謝特朗普先生。
