【ITBEAR科技資訊】7月3日消息，荷蘭政府最近宣布了一項新規定，限制了某些先進半導體設備的出口。據該規定，從9月1日起，荷蘭的先進芯片制造設備公司在出口之前必須獲得許可證。這一決定對于半導體產業具有重要意義。
在此次限制措施中，荷蘭半導體設備制造商ASML被特別提及。ASML在其官網發表聲明稱，在未來出口其先進的浸潤式DUV光刻系統時，將需要向荷蘭政府申請出口許可證。需要注意的是，此前ASML的EUV系統的銷售已經受到限制。這一措施顯示了荷蘭政府對于先進半導體技術的高度關注和控制。
據ITBEAR科技資訊了解，ASML目前在售的主流浸沒式DUV光刻機共有三款產品，分別是TWINSCAN NXT:1980Di、TWINSCAN NXT:2000i和TWINSCAN NXT:2050i。其中，ASML在今年3月表示，預計2000i和2050i這兩款產品將受到荷蘭政府的出口限制。然而，根據ASML官網上關于TWINSCAN NXT:1980Di的介紹，該款浸潤式DUV光刻機并不在限制范圍內。
TWINSCAN NXT:1980Di在分辨率方面具備高度優勢，其一次曝光的分辨率大于等于38納米，支持的工藝達到7納米左右。值得注意的是，光刻機可以通過多次曝光來實現更小尺寸的芯片制造。雖然使用TWINSCAN NXT:1980Di可能會增加步驟復雜性、提高成本并降低良率，但主要用于生產14納米及以上工藝的芯片，對于14納米以下工藝的生產較少。因此，盡管ASML的部分產品受到限制，公司仍能保持一定程度的競爭力。
這一限制措施對于半導體行業的發展將產生重要影響。盡管ASML是全球領先的半導體設備制造商之一，但其產品的限制可能會對全球芯片供應鏈帶來一定沖擊。這也提醒著各國半導體企業和相關產業鏈上下游企業，加強自主研發和創新，以減少對特定供應商的依賴，提高產業的自主可控能力。
