【ITBEAR科技資訊】12月24日消息，近期，荷蘭的領先光刻設備制造商ASML宣布了一項重大合作，他們將優先向Intel公司交付全新的高數值孔徑(High NA EUV)極紫外光刻機。這一重要合作將有助于計算機芯片制造商生產更小、更高性能的半導體。
據了解，每臺高數值孔徑的極紫外光刻機的成本超過3億美元，是極為昂貴和復雜的設備。ASML在其官方社交媒體賬號上發布了一張現場照片，展示了這些光刻機的運輸過程。光刻機的部件被謹慎地放置在一個保護箱內，并且用紅絲帶裝飾，象征著這一重要的交付時刻。這些光刻機將從ASML位于荷蘭埃因霍溫的總部發往Intel公司。
ASML公司表示：“耗時十年的開創性科學和系統工程值得鞠一躬!我們很高興也很自豪能夠將我們的第一臺高數值孔徑的極紫外光刻機交付給Intel。”這標志著雙方的合作取得了顯著進展。
高數值孔徑的極紫外光刻機是相當龐大的設備，需要分裝在250個單獨的板條箱中進行運輸，其中包括13個大型集裝箱。這些光刻機的運輸和安裝過程需要極高的技術和專業知識，以確保它們在目的地安全投入使用。
根據ITBEAR科技資訊了解，預計這些高數值孔徑的極紫外光刻機將在2026年或2027年用于商業芯片制造。NA數值孔徑是光刻機光學系統的重要參數，它直接影響光刻的分辨率和工藝節點的達成。隨著金屬間距縮小到30納米以下，也就是工藝節點超越5納米，低數值孔徑光刻機的分辨率將不足以滿足需求，因此更高數值孔徑的光刻機變得必不可少。
早在今年9月，ASML宣布將在年底交付第一臺高數值孔徑EUV光刻機，型號為“Twinscan EXE:5000”，該光刻機可用于制造2納米工藝甚至更先進的芯片，進一步推動了半導體行業的技術發展。
